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17. März 2011 | Pressemeldungen

Beiji Haotian Technology steigert Hochleistungs-LED-Kapazitäten mit AIXTRON G4- und G5-Anlagen

Ein neuer Kunde der AIXTRON SE, Beiji Hatioan Technology Co., Ltd. aus der chinesischen Provinz Jiangsu, hat im zweiten Quartal 2010 fünf MOCVD-Anlagen bestellt. Es handelt sich dabei um zwei 42x2-Zoll AIX 2800G4 HT-Anlagen sowie drei 56x2-Zoll AIX G5 HT-Anlagen. Die MOCVD*-Anlagen werden im Laufe des ersten und zweiten Quartals 2011 ausgeliefert und für die Herstellung von LED-Hochleistungs-Chips eingesetzt.

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10. März 2011 | Pressemeldungen

Centre de Recherche Public Luxemburg und AIXTRON SE erforschen neuartige Polymer-Dünnfilme

Dr. Damien Lenoble leitet den Forschungsbereich für Nanomaterialien am CRP und kommentiert: „Wir haben die PVPD-Forschungsanlage von AIXTRON aufgrund ihrer vielfältigen Einsatzmöglichkeiten ausgewählt. Das modulare, erweiterbare Konzept wird unser Vorhaben, Prozesse für ein großes Spektrum polymerer Materialien zu entwickeln, erfolgreich unterstützen. Durch die skalierbare Close Coupled Showerhead-Technologie werden wir über Anwendungen der Forschung hinaus auch an industriellen Produktionsverfahren arbeiten. AIXTRON bietet eine große Bandbreite an Lösungen zur Abscheidung funktionaler Dünnfilme – ein weiterer Grund für unsere Entscheidung."

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08. März 2011 | Pressemeldungen

Finisar Corporation produziert VCSEL nächster Generation mit AIXTRON MOCVD-Technologie

Das US-amerikanische Unternehmen Finisar Corporation mit Sitz in Sunnyvale, Kalifornien hat eine AIX 2800G4-R MOCVD*-Anlage von AIXTRON bestellt. Finisar stellt faseroptische Subsysteme und Komponenten für Kommunikationsanwendungen her.

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24. Februar 2011 | Pressemeldungen

Hong Kong University erforscht III/V-Halbleiter auf Silizium mit AIXTRON CCS

Die Hong Kong University of Science and Technology (HKUST) hat im dritten Quartal 2010 eine AIXTRON Close Coupled Showerhead MOCVD*-Anlage in einer 6x2-Zoll-Waferkonfiguration (3x3- bzw. 1x6-Zoll) bestellt.

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