AIXTRON Umsatzerlöse und EBIT auf Kurs zur Erfüllung der Prognose / Weiterhin hoher Auftragseingang in Q1/2011 / Bereits 65% der Q1-Aufträge für neue Anlagengeneration

AIXTRON CRIUS II in Taiwan qualifiziert

Die Chi Mei Group mit Sitz in Südtaiwan hat AIXTRONs aktuelle Close Coupled Showerhead MOCVD*-Plattformanlage CRIUS II erfolgreich für die Massenproduktion qualifiziert. Die Anlage übertraf die Erwartungen im Hinblick auf Prozessstabilität, Homogenität und Durchsatz.

AIXTRON liefert weitere G5-Anlagen an Epistar

AIXTRON Kunde Epistar erhält weitere MOCVD*-Anlagen. Der taiwanesische Hersteller hat eine Folgebestellung über zusätzliche 14x4-Zoll AIX G5 HT-Anlagen für die Herstellung von HB** LEDs erteilt.

AIXTRON verkauft erste 300 mm Graphen-Anlage an AIST

Das japanische National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) hat die erste 300 mm Black Magic-Anlage für die Abscheidung von Graphen bestellt. Graphen ist aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaften ein vielversprechendes Kanalmaterial für die Herstellung von Mikroelektronik und Hochfrequenzanwendungen der nächsten Generation.

TU Eindhoven produziert modernste Nanodrähte mit AIXTRON CCS-Anlage

Die Technische Universität (TU) Eindhoven in den Niederlanden hat im vierten Quartal 2010 eine 3x2-Zoll Close Coupled Showerhead MOCVD*-Anlage bestellt. Die Anlage soll für die Herstellung von Galliumarsenid- und Indiumphosphid-basierten Nanodrähten, Nitriden sowie Silizium-Halbleitern eingesetzt werden.

PARC produziert InGaAlN-Laser und LEDs mit AIXTRON CCS

PARC – ein Xerox-Unternehmen mit Sitz in Palo Alto, Kalifornien, USA – hat eine Close Coupled Showerhead MOCVD*-Anlage von AIXTRON bestellt. Die Anlage umfasst das vollständige Leistungsspektrum, wie das In-Situ Multi-Channel-Pyrometer ARGUS, hohe Wachstumtemperaturen sowie einstellbare Reaktorhöhe, die optimale Bedingungen für die Herstellung von (Al)GaN** in einem weiten Druckbereich ermöglicht.