INNOVATION

AIXTRON TECHNOLOGIEN

Mit unseren führenden Technologien zur Materialbeschichtung forcieren wir die strategischen Anwendungsmärkte Verbindungshalbleiter und Nanomaterialien. Für unsere Kunden bedeutet dies eine umfangreiche Auswahl an Technologien zur Herstellung unterschiedlicher Schichtstrukturen für verschiedenste Bauelementtypen.

Verbindungshalbleiter
Verbindungshalbleiter

MOCVD

Wir sind weltweit führend in der Herstellung von MOCVD-Anlagen zur Materialbeschichtung.

Mehr erfahren
VERBINDUNGSHALBLEITER
VERBINDUNGSHALBLEITER

Planeten-prinzip (MOCVD)

Der Planetary Reactor basiert auf dem Prinzip eines horizontalen Laminarflussreaktors und gewährleistet schärfste Übergänge...

Mehr erfahren
VERBINDUNGSHALBLEITER
VERBINDUNGSHALBLEITER

SHOWERHEAD-PRINZIP (MOCVD)

Das CCS-Konzept hat eine maximale Kapazität von 69x2 bzw 19x4-Zoll Wafern.

Mehr erfahren
2D-nanotechnologie
2D-nanotechnologie

SiC Warmwand-Planeten-Prinzip (SIC-CVD)

Unübertroffenen Produktionskapazitäten und effektive Nutzung der Ausgangsmaterialien.

Mehr erfahren
2D-NANOTECHNOLOGIE
2D-NANOTECHNOLOGIE

Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE)CVD

PECVD zur Abscheidung flexibler Sperrfilme für die Verkapselung von Dünnschichten.

Service

AIXTRON SE (Headquarters)

AIXTRON 24/7 Technical Support Line

AIXTRON Europe

AIXTRON Ltd (UK)

AIXTRON K.K. (Japan)

AIXTRON Korea Co., Ltd.

AIXTRON Taiwan Co., Ltd. (Main Office)

AIXTRON Inc. (USA)

Produkte

Vincent Meric
Vice President Marketing

Karriere

Laura Preinich
Recruiter

Tom Lankes
Talent Acquisition Expert - Ausbildungsleitung

Nachhaltigkeit 

Christoph Pütz
Senior Manager ESG & Sustainability

Unternehmen & Investor Relations

Christian Ludwig
Vice President

Ralf Penner
Senior IR Manager

Forschung & Entwicklung

Prof. Dr. Michael Heuken
Vice President Advanced Technologies

Presse & Öffentlichkeitsarbeit

Ragah Dorenkamp
Director Corporate Communications