INNOVATION

Materialklassen

AIXTRON bringt innovative Technologien in ausgereiften Anlagen auf den Markt. Wir sind spezialisiert auf drei strategische Anwendungsmärkte, in denen unsere führenden Technologien zur Materialbeschichtung für Verbindungshalbleiter zum Einsatz kommen.

Verbindungshalbleiter

III-V-Verbindungshalbleiter bestehen aus Elementen der III und V Hauptgruppe des Periodensystems. Unser Produkt-Portfolio umfasst im Bereich Verbindungshalbleiter MOCVD-Produktions- und Forschungsanlagen mit dem Planetary Reactor ® - oder Close Coupled Showerhead-Konzept zur Herstellung von LEDs, Solarzellen und Leistungselektronik.

Erfahren Sie mehr über unsere Technologien:

Nanomaterialien: Unvorstellbar klein mit riesigem Nutzen

AIXTRONs Produkt-Portfolio umfasst auch Anlagen für die Deposition von Kohlenstoff- und anderen 2D-Nanomaterialien. Sie beruhen auf unserer patentierten Showerhead-Technologie und verwenden sowohl thermische CVD-, als auch plasmagestützte Prozesse. Dadurch können nahezu alle möglichen Varianten und Formen von Kohlenstoff-Nanoröhren/-drähten, Graphen und andere 2D-Nanomaterialien hergestellt werden.

Erfahren Sie mehr über unsere Technologie:

(Plasma Enhanced) Chemical Vapor Deposition

Unsere eingetragenen Warenzeichen:

AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level SolutionS®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, Gas Foil Rotation®, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, TriJet®