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13. September 2011 | Pressemeldungen
Einer der führenden LED-Hersteller Taiwans, EpiLEDs Technologies Inc., hat eine CRIUS II-L MOCVD*-Anlage in einer 69x2-Zoll Waferkonfiguration bestellt. EpiLEDs wird die Anlage für die Massenproduktion von ultrahellen LEDs auf Galliumnitrid-Basis einsetzen.
Die Bestellung wurde im zweiten Quartal 2011 erteilt. Ein Serviceteam von AIXTRON Taiwan wird die Auslieferung und Inbetriebnahme im laufenden dritten Quartal in EpiLEDs moderner Produktionsstätte in Tainan vornehmen.
„Dies ist zwar nicht unsere erste CRIUS II-Anlage, jedoch die erste CRIUS II-L mit vergrößerter Reaktorkapazität", so EpiLEDs Präsident Steve Ku. Die neue Anlage soll die Basis für die weitere Expansion bilden. EpiLEDs technisches Team verfüge über hohe MOCVD-Expertise, so der Präsident. Überdies sei bekannt, dass AIXTRON stets die fortschrittlichste Technologie im Markt liefere. „Wir freuen uns, als einer der ersten Hersteller die neue CRIUS II-L-Anlagengeneration mit der weltweit größten Reaktorkapazität für die Herstellung blauer LEDs einzusetzen. Damit verschaffen wir uns im weltweiten Wettbewerb in der Festkörperbeleuchtung einen deutlichen Vorsprung im Hinblick auf Kosten und Leistungsfähigkeit."
„Produktionskosten zu senken ist das vorrangige Ziel in der LED-Industrie – ganz besonders bei der Herstellung von LEDs für die Festkörperbeleuchtung“, sagt Dr. Rainer Beccard, Vice President Marketing bei AIXTRON. „Unsere Analyse der MOCVD relevanten Produktionskosten hat zweifelsfrei ergeben, dass die Reaktorkapazität der entscheidende Faktor ist, der die Betriebskosten am meisten beeinflusst. Wir freuen uns darauf, den Reaktor in Zusammenarbeit mit EpiLEDs schnell und effizient in Produktion zu bringen."
Die neue CRIUS II-L-Anlage wurde im Sommer 2011 in den Markt eingeführt und liefert derzeit die weltweit größte Reaktorkapazität mit einer Waferkonfiguration von 16x4- sowie 69x2-Zoll. Basis ist die im Markt erprobte CRIUS II-Plattform, auf die Kunden nun ihre qualifizierten LED-Prozesse reibungslos übertragen können. Das Design des CRIUS II-L-Reaktors ist für Wafergrößen von 2- bis 8-Zoll optimiert und bietet weiteres Potenzial zur Steigerung der Produktivität.
* MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung
Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Alan Tai
Taiwan/Singapore
Christof Sommerhalter
USA
Christian Geng
Europe
Hisatoshi Hagiwara
Japan
Nam Kyu Lee
South Korea
Wei (William) Song
China
AIXTRON SE (Headquarters)
AIXTRON 24/7 Technical Support Line
AIXTRON Europe
AIXTRON Ltd (UK)
AIXTRON K.K. (Japan)
AIXTRON Korea Co., Ltd.
AIXTRON Taiwan Co., Ltd. (Main Office)
AIXTRON Inc. (USA)
Laura Preinich
Recruiter
Tom Lankes
Talent Acquisition Expert - Ausbildungsleitung
Christoph Pütz
Senior Manager ESG & Sustainability
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Ralf Penner
Senior IR Manager
Prof. Dr. Michael Heuken
Vice President Advanced Technologies
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications