IIT Pisa entwickelt Graphen für die moderne Nanoelektronik und Energietechnik mit AIXTRON Anlage

Das Institut wird eine Anlage für die chemische (CVD-) bzw. plasmaunterstützte (PECVD)-Abscheidung einsetzen. Die zweite Anlage ist für die Entwicklung von Hochtemperaturprozessen (1800°C) mittels Sublimation konfiguriert. Ein Serviceteam von AIXTRON hat beide Systeme im Power Nanosystems Laboratory (Labor für Nanosysteme in der Leistungselektronik) am institutseigenen Innovationszentrum für Nanotechnologie installiert und in Betrieb genommen, das dem Labor NEST der Scuola Normale Superiore (IIT@NEST) angeschlossen ist.

„Depositionsanlagen von AIXTRON sind international anerkannt, denn sie liefern äußerst homogene, reproduzierbare Dünnfilme", konstatiert Dr. Camilla Coletti vom IIT@NEST. „Wir nutzen die neue Technologie als Grundlage, um die Synthese von Graphenfilmen zu erforschen – etwa für Anwendungsbereiche in der Nanoelektronik oder der Energiespeicherung. Sie ermöglicht uns größtmögliche Flexibilität bei der Wahl des geeigneten Herstellungsverfahrens – sprich CVD, PECVD oder Hochtemperatursublimation." Nur so könnten Graphenfilme mit dem jeweils optimalen Verfahren und den für die spezifische Anwendung gewünschten Eigenschaften erzeugt werden. Das Ziel sei, mit leicht bedienbarer Technik homogene, reproduzierbare Graphenfilme von hoher Qualität zu erzeugen. „Die AIXTRON Anlage erreicht diese Vorgaben am besten", so Dr. Coletti abschließend.

Das in 2009 gegründete interdisziplinäre Forschungs- und Entwicklungszentrum IIT@NEST befasst sich mit den grundlegenden Phänomenen in der Nanotechnologie und im Bereich moderner Nanobaulemente. Es gliedert sich in die Kompetenzfelder nanotechnologische Leistungsbauelemente, Nanomedizin sowie Nanoprozesse/-systeme. Ein Reinraum, sowie modernste Charakterisierung und Depositionsanlagen ermöglichen Grundlagen- und angewandte Forschung in den Bereichen Nanoprozessierung, moderne Diagnostik und Molekularmedizin.

*BM Pro = neue Bezeichnung für AIXTRON Black Magic Anlage

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