AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS(R) II-XL auf den Markt

AIXTRON bringt weltweit produktivste MOCVD-Anlage CRIUS^(R) II-XL auf den Markt

Aachen, 8. November 2011 - Nach der erfolgreichen Produkteinführung der
CRIUS^(R) II-L gibt AIXTRON SE (FSE: AIX; NASDAQ: AIXG) den nächsten Meilenstein bekannt: Mit einer Konfiguration von beispielsweise 19x4-Zoll liefert die neue CRIUS^(R) II-XL nicht nur die weltweit größte Kapazität, sondern auch höchsten Durchsatz und maximale Produktivität. Damit sind Hersteller in der Lage, bei effizientester Ausnutzung der Standfläche zu niedrigsten Betriebskosten zu produzieren.

Die neue CRIUS^(R) II-XL-Konfiguration basiert auf der gleichen Hardware wie schon das Vorgängermodell CRIUS^(R) II-L. 'Lediglich die Suszeptorplatte muss ausgetauscht werden', so Dr. Johannes Lindner, Programm-Manager bei AIXTRON für Close Coupled Showerhead^(R) (CCS)-Technologie. 'Trotz größerer Kapazität entstehen so praktisch keine zusätzlichen Kosten, da wir beim Design der neuen Anlage höchstes Augenmerk darauf gelegt haben, dass der Übergang von der CRIUS^(R) II-L zur CRIUS^(R) II-XL so einfach wie möglich vollzogen werden kann. Auch die Prozesse müssen nur geringfügig angepasst werden.'

Grundlage für das neue Anlagendesign war erneut eine detaillierte Analyse des Marktes, bei der die LED-Herstellungskosten im Mittelpunkt standen. 'Die Hersteller sind gezwungen, immer kostengünstiger zu produzieren', erklärt Dr. Rainer Beccard, Vice President Marketing bei AIXTRON. 'Mit den Möglichkeiten der MOCVD-Technologie lässt sich diese Kostenreduktion erreichen. Da die Reaktorkapazität den größten Einfluss auf die Betriebskosten hat, haben wir uns für die 19x4-Zoll-Konfiguration entschieden. Intensive Tests in unserem Labor haben gezeigt, dass die neue Anlage neben ihrer Größe maximale Homogenität und hohe Erträge liefert. Die CRIUS^(R) II-XL ist für Wafergrößen von 2 bis 8 Zoll optimiert. Der Wechsel auf eine andere Wafergröße erfolgt durch den einfachen Austausch des Suszeptors - weitere Hardware- oder Prozessanpassungen sind auch hier nicht erforderlich', so Dr. Beccard.

AIXTRON Showerhead-Technologie ist aufgrund ihrer ausgezeichneten Prozessstabilität und Zuverlässigkeit eine anerkannte Größe im MOCVD-Markt und wird nun durch das neue Modell ergänzt. Die CRIUS^(R) II-XL ist standardmäßig mit dem ARGUS In-situ-Messgerät und einem höhenverstellbaren Suszeptor ausgestattet, der es dem Anwender ermöglicht, während des Prozesses die optimale Reaktorgeometrie für jedes denkbare Prozess-Regime auszuwählen.

MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6; NASDAQ: AIXG, ISIN US0096061041) sind im Internet unter http://www.aixtron.com verfügbar.

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