05. April 2011 | Pressemeldungen

TU Eindhoven produziert modernste Nanodrähte mit AIXTRON CCS-Anlage

Die Technische Universität (TU) Eindhoven in den Niederlanden hat im vierten Quartal 2010 eine 3x2-Zoll Close Coupled Showerhead MOCVD*-Anlage bestellt. Die Anlage soll für die Herstellung von Galliumarsenid- und Indiumphosphid-basierten Nanodrähten, Nitriden sowie Silizium-Halbleitern eingesetzt werden.

Nach der Auslieferung im dritten Quartal 2011 wird ein Serviceteam von AIXTRON Europa die Anlage im modernen Reinraum im Forschungsinstitut COBRA der TU Eindhoven installieren und in Betrieb nehmen.

„Wir werden die CCS-Anlage für die Grundlagenforschung nutzen, insbesondere um komplexe halbleitende Nanodraht-Heterostrukuren zu synthetisieren, die als aktive Elemente in Solarzellen, (bio)chemischen Sensoren, in der Thermoelektrik sowie in Quanteninformations-Bauteilen eingesetzt werden", erläutert Professor Dr. Erik Bakkers von der Abteilung Halbleiter-Nanophotonik an der TU Eindhoven. „Diese Anwendungen erfordern herausragende elektronische (Mobilität) und optische Qualität (Linienbreite / Intensität) der Drähte. Ich bin sicher, dass unsere Anforderungen optimal von der AIXTRON Close Coupled Showerhead-Technologie abgedeckt werden.

Mit der vielseitigen und leistungsfähigen MOCVD-Anlage wird unser Team in der Lage sein, niederländischen Forschungsinstituten Nanodrähte und andere relevante Materialien zur Verfügung zu stellen. Überdies werden wir damit die Eigenschaften von Nanodrähten steuern und Nanodrähte mit neuen Materialverbindungen herstellen können."

Die Nanowire-Gruppe der TU Eindhoven nahm im Januar 2010 ihre Aktivitäten auf und hat sich in dieser Zeit zum nationalen Zentrum für das Wachstum von Nanodrähten entwickelt. Das Forschungsinstitut COBRA an der TU Eindhoven ist nationales Zentrum der Niederlande für die Erforschung von III-V-Verbindungshalbleitern, optoelektronischen Bauteilen und Systemen. Mehr als einhundert Wissenschaftler und Techniker sind bei COBRA beschäftigt. 

* MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®

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