AIXTRON liefert PRODOS Gen3.5-Produktionsanlage an großen asiatischen Kunden

AIXTRON hat eine PRODOS Gen3.5 PVPD-Anlage (Polymer Vapor Phase Deposition) auf Basis seiner patentierten Close Coupled Showerhead (CCS)-Technologie an einen großen asiatischen Hersteller geliefert. Die neue Produktionsanlage ist für die Abscheidung von Polymer-Dünnfilmen vorgesehen, mit denen neuartige Bauelemente für die flexible Elektronik hergestellt werden sollen.

Ein Serviceteam von AIXTRON wird die neue Plattform in den nächsten Wochen am Standort des Kunden installieren und in Betrieb nehmen.

„Erst kürzlich haben wir unsere Forschungs- und Entwicklungsanlage PRODOS-200 in den Markt eingeführt", sagt Jürgen Kreis, Director Business Development bei AIXTRON. „Die neue PRODOS Gen3.5-Anlage ist speziell für die Produktionsumgebung im Format Gen3.5 (Substratgrößen von 650x750mm²) unseres Kunden ausgelegt. Während die Entwicklungsanlage aufgrund ihrer flexiblen Konfigurationen neue Prozesse auf 200x200mm²-Substratgröße ermöglicht, implementiert die PRODOS Gen3.5 für dieses neue Projekt einen spezifischen Prozess zur Polymerabscheidung im industriellen Maßstab. Die Zusammenführung der trägergasgestützten Abscheidung mit der Close Coupled Showerhead-Technologie beweist die hervorragende Skalierbarkeit des PVPD-Ansatzes."

„Unsere PVPD-Anlagentechnologie ist bereits bei anderen großen Kunden der flexiblen Elektronik installiert, deren anspruchsvolle Produktionsprozesse für organische Backplanes wir bedienen. Wir freuen uns daher sehr, dass sich ein weiterer namhafter Hersteller für AIXTRONs Schlüsseltechnologie entschieden hat", ergänzt AIXTRONs Chief Operating Officer Dr. Bernd Schulte. „Die flexible Elektronik befindet sich zwar noch am Anfang, aber die Aussichten für diese neue Technologie sind vielversprechend. Sie wird unseren Kunden völlig neue Anwendungsbereiche erschließen, zum Beispiel flexible Flachbildschirme, die leicht und robust sind, wenig Energie verbrauchen und Farbbrillanz sowie höchsten Lesekomfort bieten."

Die AIXTRON PVPD-Technologie (Polymer Vapor Phase Deposition) ist eine Plattform zur kontrollierten Abscheidung und Insitu-Bildung von Polymer-Dünnfilmen aus der Gasphase. Im Gegensatz zu herkömmlichen lösungsmittelbasierten Verfahren bietet das trägergasgestützte Abscheideverfahren eine Reihe herausragender Vorteile, wie die gezielte Kontrolle der Schichteigenschaften, hohe Konturkonformität der Schichten, Änderung der Schichtzusammensetzung während der Abscheidung (z.B. kontrollierte Co-Deposition) sowie effiziente Produktionsabläufe. Mit der PVPD-Anlage kann insbesondere die Entwicklung neuer Dünnschichtprozesse und Herstellungsverfahren vorangetrieben werden.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®